본문 스퍼터링(sputtering) 현상은 1852년 Grove에 의하여 처음 발견되었으며 3 , 현재는 여러 가지 박막의 형성에 광범위하게 사용되어지고 있다. 스퍼터링(sputtering)은 높은에너지(> 30 eV)를 가진 입자들이 target에 충돌하여 target 원자들에게 에너지를 전달해줌으로써 target원자들이 방출되는 현상이다. 만일 충돌하는 입자들이 양의 이온(positive -ion)이라면 cathodic sputtering이라고 부르는데, 대부분의 스퍼터링은 cathodic sputtering이다. 보통 스퍼터링에는 양의 이온이 많이 사용되는데, 그 이유는 양의 이온은 전장(electric field)을 인가해 줌으로써 가속하기가 쉽고 또한 target에 충돌하기 직전 target에서 방출되는 Auger전자에 의하여 중성화되어 중성 원자로 target에 충돌하기 때문이다. ( 1 ) 이온과 고체 표면과의 반응 이온이 고체 표면에 충돌할 경우 다음과 같은 현상이 일어난다. ① 이온 반사 이온이 고체 표면에 충돌하여 중성화(neutr alization)된 후, 반사(reflection)되는 경우다. 이러한 Ion Scattering Spectroscopy에 이용된다. Ion Scattering Spectroscopy는 표면층에 대한 정보 및 이온과 표면간의 상호 작용에 관한 많은 정보를 제공한다. 참고문헌 -네이버 지식백과 -네이버 지식사전 -네이버 지식iN 하고 싶은 말 키워드 스퍼터링, lcd, 공학 |
2016년 12월 26일 월요일
LCD 스퍼터링sputtering에 관하여
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